项目背景

大尺寸、紫外级CaF2单晶是193nm DUV光刻机照明系统、投影物镜系统、紫外光源等部分的核心元器件材料，是光刻机国产化"卡脖子”的关键材料。目前，紫外光刻级CaF2 晶体全部依赖进口。
研发团队超60%人员具有硕士以上学历。
项目曾获02专项支持，并计划列入国家"十四五”规划。